Экскурсия в НИИМЭ и на «Микрон»

09
декабря
2025

С НИИМЭ у НИЯУ МИФИ Договор от 11 июля 2024 года о практической подготовке обучающихся. Первое знакомство студентов с НИИМЭ организовывается в виде технического тура. В рамках такого тура 9 декабря 2025 г студенты ИНТЭЛ посетили НИИМЭ и рядом расположенный завод Микрон, ранее входивший в состав НИИ. Во время экскурсии по НИИМЭ основное внимание было уделено практической части работы с электроникой. Так, были показаны готовые пластины с чипами и оборудование для проверки изготовленных элементов. Студенты смогли узнать, с какими программами работают сотрудники института, как проходит работа сотрудников и какой процент изготовленной продукции оказывается отбракованным. После посещения лабораторий был более подробно рассмотрен процесс промышленного производства электронных компонентов, отмечены его основные этапы и возникающие проблемы. В завершение была проведена лекция об устройстве рынка микроэлектроники, о профессиях на нем и о роли института в своем сегменте российского рынка труда. Во время экскурсии по заводу Микрон была проведена короткая лекция об истории предприятия, о создании кремниевых пластин, которые используются в производстве. Студенты познакомились с производственной зоной, где показали два цеха, рассказали об условиях труда, процессе производства, классах чистоты в цехах и о производимой электронике, варьирующейся от массовых продуктов, таких как чипы для банковских и транспортных карт, до небольших специализированных партий - например, микрочипов для осетровой фермы.

По отзывам участников, мероприятие было интересным, полезным и продуктивным. Многие особенно отметили, что экскурсия помогла в формировании карьерного плана и поиске предприятий для практик и стажировок.

Было очень приятно узнать после технического тура (Ведомости 11 декабря 2025), что НИИМЭ совместно с НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», завершили создание первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ) для производства интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм. Тем самым институты вошли в число пяти мировых лидеров, обладающих компетенциями в создании и производстве такого оборудования.

Факультет выражает искреннюю благодарность руководству и сотрудникам НИИМЭ и завода «Микрон» за тёплый приём и открытость, а также коллегам из НИЯУ МИФИ за организацию этого значимого мероприятия.